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陶瓷加熱器技術(shù)設(shè)計原則

更新時間:20/07/24 08:42:07     來源:m.qwljz.cn
    在評論陶瓷加熱器系統(tǒng)的好壞時,主要還是要看在整個加熱操作時,是否以輻射加熱為主要方式,以傳導(dǎo)對流加熱為輔,輻射加熱占有比例越大,說明系統(tǒng)的性能越好。
    經(jīng)過陶瓷加熱器對大量烘道、烘箱熱能轉(zhuǎn)換效率的測定、理論上的研究。在80年代中期提出了辨別輻射烘道的2個方法:
    ①測定烘道內(nèi)空間溫度、元件表面溫度,只有T空間<T元件20℃至40℃時,烘道才被稱為輻射烘道,當(dāng)元件符合遠(yuǎn)紅外節(jié)電條件時,稱為遠(yuǎn)紅外烘道。
    ②改流水作業(yè)為靜態(tài)烘烤,若未出現(xiàn)漆膜不均勻現(xiàn)象時,才能被稱為輻射烘道,否則不能稱為遠(yuǎn)紅外加熱。
    在歷經(jīng)多年的研究、實踐探討過程后,研究人員總結(jié)出遠(yuǎn)紅外烘道,烘箱的以下3條設(shè)計原則:
    ①均勻輻射場設(shè)計:在保證陶瓷加熱器工件不管在什么位置上,表面所接受的輻射能為均勻狀態(tài)。均勻輻射場設(shè)計是利用輻射光學(xué)原理,計算出一組數(shù)據(jù),即:元件排列方式、元件間隔、反射罩形式、元件與工件距離。從而擺脫元件間隔100mm至350mm,元件與工件距離50mm至400mm的定性設(shè)計。
    ②均勻勻溫度場設(shè)計:為避免烘道內(nèi)均勻溫度場被破壞,應(yīng)讓烘道內(nèi)的所有溫度差都保持在±5~10℃范圍內(nèi)。
    ③均勻控溫技術(shù)設(shè)計:采用通斷式控溫而導(dǎo)致陶瓷加熱器局部溫度波動大。晶閘管調(diào)壓可降低元件的輻射,增加對流作用。因此應(yīng)采用調(diào)功器控溫,進(jìn)而讓遠(yuǎn)紅外技術(shù)達(dá)到理想狀態(tài)。
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